「這中企」不靠EUV能做5奈米？ 中媒唱衰：還差十萬八千里
美國對中國大陸半導體產業的封鎖不斷加強，中國大陸企業是否真的能夠突圍？近日市場傳出中國大陸晶片設備商深圳新凱來產業機械（SiCarrier Industry Machines）成功研發出可支持5奈米製程的半導體設備，引發外界關注。然而這項技術是否真的能落地，仍存在極大爭議。
據外媒報導，深圳新凱來近期在SEMICON China 會場上高調宣稱，其研發的半導體設備能夠實現從7奈米到5奈米的製程，甚至能應用於成熟製程的28奈米技術，並展示了名為「以山之名」的半導體製造設備。該公司董事長戴軍表示，雖然中國大陸無法獲取先進的EUV（極紫外光）曝光設備，但透過自家開發的非光學技術與多重圖案化（Multi-patterning）製程機台，有機會突破美國的技術封鎖。
新凱來於2023年底獲得中國大陸知識產權主管機關核發的多重圖案化技術專利，並聲稱透過DUV（深紫外光）曝光技術結合「自對準四重圖案化」（SAQP）工藝，可以實現接近5奈米製程的技術指標，且無需依賴昂貴的EUV設備。然而這項技術的可行性與實際量產能力仍受到業界質疑。
▼新凱來聲稱透過DUV（深紫外光）曝光技術結合「自對準四重圖案化」（SAQP）工藝，可以實現接近5奈米製程的技術指標，且無需依賴昂貴的EUV設備。（示意圖／新凱來官網）
分析師指出，從技術原理來看SAQP確實是一種能夠突破微影技術瓶頸的方式，但其帶來的製程複雜度大幅提升，可能導致生產良率下降，甚至影響大規模量產的可行性。業內人士指出，面對來自美國的技術限制與封鎖，中國大陸半導體產業正積極尋求「國產替代」路線，新凱來的出現與技術突破，或成為中國大陸邁向先進製程領域的重要一環。
但戴軍本人也坦言，當製程從7奈米提升至5奈米時，製造步驟將增加約20%，帶來良率與成本的挑戰。儘管新凱來聲稱其技術已被中國大陸主要晶圓代工廠中芯國際（SMIC）採用，並與電信巨頭華為展開合作，但在此次展會上，外界並未見到其實際運行中的設備，僅有技術說明與產品模型展示，讓外界對其真實技術能力抱持懷疑態度。
中國大陸媒體也對此潑冷水，指出「專利在手不等於技術成熟」，並直言新凱來目前僅是提出技術概念，距離真正量產仍有很長的路要走，中間還有十萬八千里。某些評論甚至形容其展示方式「像是在賣滿漢全席，卻連食譜都不給看」，暗指技術尚未成熟。
公開資料顯示，新凱來產業機械成立於2022年，母公司新凱來科技則創立於2021年，並由深圳市政府投資基金全資持有。此外，新凱來已於2024年12月被美國商務部列入貿易黑名單，這無疑將進一步影響其發展與供應鏈合作。
（封面示意圖／Unsplash）
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