《國際產業》採用EUV微影技術，三星新晶圓廠投入量產

【時報記者柯婉琇綜合外電報導】全球最大記憶體晶片廠三星電子周四宣布，在南韓採用極紫外光（Extreme ultraviolet,EUV）微影技術的半導體晶圓新廠已經開始量產。

三星表示，在華城市的V1廠採用7奈米製程世代生產晶片，第一批產品將在今年第一季交付給客戶。三星表示，V1廠目前以7奈米與6奈米製程技術生產行動晶片，未來將採用更精微、最高達3奈米的製程世代。到今年底，V1廠的累計總投資金額將達到60億美元。

採用EUV微影設備的V1廠在2018年2月開工興建，並於2019年下半年投入晶圓試產。目前三星在南韓與美國總共有6條晶圓生產線。三星去年宣布，到2030年將投資133兆韓元（相當於1110億美元）擴大非記憶體和晶圓事業。

三星電子副董事長李在鎔在考察新廠時表示：「去年就在此地，我們立下了要成為全球系統晶片第一大廠的願景，我們必須繼續努力，讓這些晶片實現我們為社會做出貢獻的夢想」。

三星表示，引進EUV微影技術日益重要，能縮小晶圓上的複雜圖形，並為5G、人工智慧與汽車等新世代應用提供最佳選擇。攜手S3廠，V1廠在全球市場對一位數製程世代的需求快速成長之際，可望扮演關鍵角色。