中芯沒EUV是好事？外媒爆陸自產DUV大突破 恐是ASML惡夢開始

吳美觀

荷蘭晶片設備製造巨擘艾司摩爾（ASML）執行長福克（Christophe Fouquet）表示，儘管中國大陸企業如中芯國際近年來在半導體領域有顯著進展，但由於無法取得最先進的極紫外光微影設備（EUV），晶片製程技術仍落後台積電、三星等代工龍頭約10至15年。

Tom's Hardware報導，福克接受荷蘭《鹿特丹商報》（NRC）採訪時指出，中芯國際和華為僅使用深紫外光曝光設備（DUV），在成本效益上無法與台積電的製程技術相提並論。

他認為，美國政府祭出的禁止EUV出口中國大陸禁令確實有效，讓中國落後西方約15 年。儘管傳出中芯國際曾訂購一台EUV設備，但ASML為遵守國際出口管制規範「瓦聖那協議」以及美國制裁，從未將EUV設備出口至中國。

然而，ASML仍持續向中國出貨先進DUV設備，例如「Twinscan NXT:2000i」機型，可生產5奈米、7 奈米製程晶片。目前中芯國際使用第一代和第二代7奈米製程為華為生產晶片，有助於中國高科技巨頭應對美國制裁。

由於EUV設備無法進入中國，華為及其合作夥伴正積極開發極紫外線曝光技術，以建立自家晶片製造設備與生態系統，預計耗時約10至15年。相較之下，ASML及合作夥伴花了超過20年的時間建立EUV生態系統。

在1990年代的許多技術都是公開已知，因此中國開發EUV技術的難度較低，但外界最大擔憂並非在15年後開發出EUV曝光設備，而是未來幾年內複製ASML主流DUV設備，如Twinscan NXT:2000i。

目前，美國政府施壓 ASML，要求停止為販售至中國的先進 DUV系統提供維修服務，以配合對中國半導體業的制裁，但荷蘭政府尚未同意。

中國大陸企業包括中芯國際、華虹半導體和長江存儲等，都是ASML的重要客戶，透過銷售DUV曝光設備，每年獲利數十億美元。若大陸設備廠成功開發自有 DUV系統，不僅可能減少對 ASML的採購量，甚至可能出口至中國以外的市場，與ASML展開競爭，進一步加劇ASML在中國市場的壓力。

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