艾司摩爾執行長：陸買不到EUV 晶片技術將落後15年

記者林宸誼／綜合報導

荷蘭半導體曝光設備大廠艾司摩爾（ASML）執行長富凱（Christophe Fouquet）日前接受媒體專訪時表示，由於美國對中國大陸禁止出口極紫外光（EUV）曝光設備，導致大陸無法獲得尖端曝光機，與英特爾、台積電和三星等行業巨頭相比，大陸晶片技術將落後西方10-15年。

荷蘭《新鹿特丹報》（NRC）報導，富凱指出，禁令確實會產生影響，畢竟ASML是一家私營企業。

這是自2024年4月富凱擔任ASML執行長以來，首次談及大陸與海外半導體產業的差距。先前富凱還表示，世界需要大陸生產的傳統晶片，將填補歐洲供需缺口，尤其大陸廠商不可能造出先進曝光系統。

今年10月16日，ASML發布2024財年第3季財報顯示，銷售額為75億歐元，高於預期目標，主要得益於深紫外（DUV）曝光系統銷售和裝機售後服務增加，該季度毛利率為50.8%，低於上一季度，淨利潤21億歐元。其中大陸仍是ASML最大市場，占第3季銷售額47%。

富凱表示，ASML擁有令人難以置信的市場地位，但也為此付出代價：關注和外部壓力。這一點將繼續存在，大陸、美國都將ASML視為拼圖中的關鍵部分。

富凱強調，「如果剩下幾個大公司，對創新來說會更好。我毫不懷疑三星將會復甦。競爭對手也希望看到英特爾再次表現出色。但如果犯的錯誤太多，就很難起來。英特爾的復甦對美國具有重要戰略意義。」

ASML在全球晶片供應鏈中占據重要地位，世界上幾乎90%的晶片都是由ASML曝光系統生產。在半導體製造行業，深紫外（DUV）曝光機可用於製造7奈米及以上製程的晶片，涵蓋大部分數位晶片和幾乎所有的類比晶片。隨著先進製程向5奈米及以下進化，EUV成為未來曝光技術和先進製程核心，主要用於7奈米及以下先進晶片製造製程，荷蘭ASML是唯一的供應商。

自1988年交付首台步進式（stepper）曝光機以來，今年是ASML深耕大陸市場的第36年。2024年1月2日，ASML發布聲明稱，荷蘭政府部分撤銷先前頒發的NXT：2050i和NXT：2100i曝光機在2023年發貨的出口許可證，這將對ASML在大陸的個別客戶產生影響。

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