《產業》經部助攻9廠 拚DUV光阻劑本土生產
【時報-台北電】中國大陸本月成功研發國產DUV曝光機,震驚各界。台灣則是主力放在半導體關鍵材料自主化,經濟部二期補助9家廠商,年底將進行終端產線驗證。最快明年深紫外光(DUV)曝光機的光阻劑核心材料,可打入台積電、聯電等代工大廠產線中。
雖然荷蘭艾司摩爾(ASML)擴大管制曝光機出口大陸,但中國卻研發出國產DUV,能生產8奈米及以下晶片,突破封鎖。台灣自然沒有被管制問題,但過去晶圓代工製程發生過光阻劑大缺貨狀況,為了把關鍵材料掌握在自己手中,經濟部推動兩期半導體先進製程與封裝材料研發,第二期今年底完成。
2024年台灣半導體材料需求占全球28%,經濟部表示,二期補助9家供應鏈業者開發8項材料,包含深紫外光光阻材料、3到5奈米製程原子層沉積前驅物、乾膜光阻材料等。
微影製程是在晶圓上製作電路圖案,隨著精細度有DUV、EUV(極紫外光)差別。光阻劑是一種光敏感材料,由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成,乃微影不可或缺重要材料。至於曝光機的光罩部分,國內像是家登都有生產,比例已不低。
法人智庫工研院表示,目前國內光阻劑都掌握在日本手上,關鍵材自主計畫希望把周邊材料、配方都改由國產化。第二期的光阻劑研發就是往更核心材料發展,像是感光樹脂中的起始劑、添加劑等。
等到光阻劑材料年底驗證完後,工研院說,最快明年廠商就可試量產。至於供應量多少,要看上游台積電、聯電、力積電需求,涉及商業機密,但目標是逐步取代從日本進口。
工研院強調,最終國內會走向DUV光阻劑等周邊材生產全部本土化,下一步還會朝EUV周邊材自主化去走,不過需要時間。(中國時報一/王玉樹報導)