太慘!拼命追趕還是慘輸台積電 三星3奈米最新良率曝光

「護國神山」台積電的先進製程技術遙遙領先其他競爭對手,也獲得全球大客戶肯定。不過南韓三星電子仍努力追趕,想要分一杯羹。據最新爆料,三星的3奈米良率已大幅提升到原本的3倍,但仍是落後台積電。

科技網站Wccftech引述知名爆料者Revegnus在社群平台X(前身為推特)的發文報導,三星的3奈米製程良率一開始雖然只有10~20%,但最近已拉升至3倍以上。

儘管三星如今3奈米製程良率已達30~60%之間,但Revegnus直言,相較於使用FinFET製程的台積電,三星的良率數據依然偏低。不過三星對於第二代3奈米製程寄予厚望,據傳其效能、功耗及面積(Performance、Power、Area;PPA)相當於台積電的N3P。

Revegnus還表示,據消息人士透露,三星3奈米製程的能源效率、邏輯區域,都較4奈米4奈米FinFET改善20~30%。

不過Wccftech在報導中直言,隨著台積電今年積極將3奈米晶圓產能擴大到每月約10萬片的規模,三星幾乎沒有機會趕上,「在過去的幾年裡,這家台灣半導體巨頭(台積電)在這個領域幾乎看不到競爭」。

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報導中指出,三星必須將良率進一步提高70%,才能重拾高通等先前客戶的信心。不過到目前為止,三星的3奈米GAA晶片只有加密挖礦行業客戶的訂單,並沒有加入更多其他客戶。很可能是因為許多公司對三星的早期樣品印象不佳,因此決定在可預見的未來繼續使用台積電。三星雖仍致力於做出調整,但要對其代工勁敵台積電構成威脅還需要一段時間。

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