艾司摩爾「晶片製造神器」 傳年底運抵台積電

東森財經

半導體裝置製造商艾司摩爾（ASML）最先進晶片製造設備高數值孔徑「極紫外光」（High NA EUV）微影設備，為全球最貴設備，每台要價約3.5億歐元（約新台幣121.27億元），相當於三架F-35戰機的價格。日媒報導，將於年底前運抵半導體龍頭台積電（2330）新竹總部附近研發中心。

根據日本關注台灣產業概況的威志媒體（Y's Media）報導，引述消息人士透露，台積電將把「High NA EUV」安裝在新竹總部附近寶山廠區的研發中心，進行量產前，該設備會需要先進行大量研究和工程準備。

報導指出，「High NA EUV」是全球最昂貴的晶片製造設備，台積電可能在推出埃米級（為奈米的十分之一的長度單位）A10製程後，才會考慮使用該設備進行大量商業生產，可能是2030年後。

據悉，現階段「High NA EUV」機台將數值孔徑從0.33增加至0.55（例如TWINSCAN EXE:5000），更具高解析度圖像化能力，能夠使精準度提高、成像更加清晰且，每小時可列印超過185個晶圓，將大大提高先進製程的產能。

世界上第二大半導體公司英特爾，今年4月已先收到這台高數值孔徑「High NA EUV」微影設備，預計2027年前開發出下世代「Intel 14A」以及「Intel 14A-E」製程，業界研判與台積電命名為「A14」的1.4奈米製程相當。

（封面圖／翻攝ASML的YouTube頻道）

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