永光化學光阻系列 滿足半導體新應用

工商時報【文╱李水蓮】 永光化學電子化學事業，歷經20多年的研發技術，不僅完整佈局半導體製程G&I-Line光阻產品版圖;推出SiC專用研磨液，並著墨於晶圓級封測與系統級封裝所需之化學增幅型光阻劑、顯影液、研磨液、特殊油墨等一應俱全，以滿足半導體新世代產品應用。 永光化學副總經理林昭文表示，永光化學的電化產品，已具備20nm超潔淨化學品量產能力，同時也是全球6家國際大廠的光電、半導體製程材料合作廠商。2018年永光化學持續推出旗下兩大光阻應用：厚膜封裝光阻EPP 110；關鍵層I-line光阻EPI 630。EPP 110主要可用於電鍍銅，最高可用厚膜＝25um，深寬比5，具備業界競爭力。 即使面對大陸紅色供應鏈崛起，永光化學在大陸市場永不缺席。永光化學於20年前進入中國大陸，在既有產品下，持續開發多項高性能材料、建立驗證產線。永光蘇州廠將積極尋找在地生產，透過客製化代工，提高永光化學的競爭優勢。「永光服務創新、材料開發與技術突破，已成兩岸客戶首選。」林昭文補充道。 面對2.5D與3D晶片堆疊的技術演進，永光化學目前著重於封測產業使用之黃光化學品，推出ECA 150化學增幅型光阻劑、ENPI 503負型光阻劑、EPD 56顯影劑，主要針對金凸塊（Gold Bump）、銅柱（Cu Piller）與重佈線製程（RDL）等製程使用。 因應5G、大數據與物聯網趨勢來臨，碳化矽（SiC）半導體功率元件逐漸受到重視，永光不缺席新產品的開發，推出SiC專用研磨液，為新半導體時代來臨做好產品就位。