美光最新「1β製程節點DRAM」正式量產！先在日本生產、再導入台灣廠區

記憶體大廠美光科技（Micron）2日宣布，1β製程節點的「動態隨機存取記憶體」（DRAM）量產已全面就緒，開始為智慧型手機製造商、晶片組合作夥伴提供LPDDR5X技術的驗證樣品。不過，1β尚未使用極紫外光（EUV）微影設備，而1β製程將於日本量產，接著導入台灣廠區，相關產品組合將於明年問世。

美光表示，1β節點可將更高的記憶體容量，塞入更小的空間內，從而降低每位元資料的成本。DRAM的進展向來取決於如何在每平方毫米的半導體面積內，提供更多、更快的記憶體，因此，需要縮小電路，將數十億個記憶體單元收納在約莫指甲大小的晶片中。

隨著每個製程節點的演進，半導體產業每1至2年縮小晶片尺寸；然而，隨著晶片變得越來越小，在晶圓上界定的電路圖便需要挑戰物理定律的極限。

儘管業界已開始改用新工具極紫外光（EUV）設備來克服技術挑戰，美光仍利用先進奈米製造能力與微影技術，來跳過尚在新興階段的極紫外光技術。

至於何時導入EUV？美光指出，1β還不需要用到EUV，將評估在1γ或後續製程導入。目前美光有獨門的先進多重曝光技術和沉浸式微影能力，以最高精確度做出微小的電路特徵，進一步縮小節點而帶來容量提升，讓智慧型手機和物聯網裝置等體積較小的裝置涵納更多記憶體。

為了讓1β和1α製程發揮競爭優勢，美光過去幾年也積極推動卓越製造、提升工程技術能力、強化開創性研發，加速創新首先讓美光比競爭對手提前一年實現前所未有的1α節點量產，達成史上首次在DRAM和NAND兩個領域同時居於市場領導地位。

美光多年來投資數十億美元，將晶圓廠轉變為先進、高度自動化、由人工智慧驅動的永續營運設施，其中也包括美光對日本廣島廠的投資，廣島廠將以1β製程量產DRAM。

根據美光規劃，明年將開始在嵌入式、資料中心、個人電腦、消費電子、工業和汽車領域擴大1β產品組合，包括繪圖記憶體、高頻寬記憶體等。

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