需求升 晶呈科前五月EPS 1.51元

晶呈科技（4768）因有價證券多次達公布注意交易資訊標準，公告5月自結營收年增22％，稅前盈餘0.12億元、年增50％，稅後純益0.08億元、年增33％，EPS達0.2元。近二月累計營收年增25％，稅前盈餘0.28億元、年增27％，稅後純益0.21億元、年增40％，EPS達0.48元。加計首季EPS達1.03元，累計今年前五月EPS為1.51元。

晶呈科為國內特殊氣體供應商，主要產品為C4F8（八氟環丁烷）和C4F6（六氟環丁烷）應用於蝕刻（etch）製程，至於F2N2（氟氣、氮氣混合氣體）主要用於蝕刻及擴散（diffusion）製程中的清洗氣體；Laser Gas（雷射氣體）則用於黃光製程。

晶呈科因特殊氣體需求增加，6月營收年增20.61％；上半年營收4.94億元，年成長10.49％。法人認為，晶呈科特殊氣體產品需求將逐季回溫，去光阻液（Stripper）也已有12種品項可量產，有助下半年營運動能回溫。

晶呈科受惠記憶體投片量增，帶動C4F8（八氟環丁烷）出貨量增，隨著半導體先進製程不斷推進，對於特殊氣體需求增加，晶呈新增C4F6（六氟環丁烷）二級製造，加上去光阻液第一條產線今年3月開出，預期下半年產能即可達滿載狀態，可望持穩挹注業績表現。

此外，晶呈科去光阻液陸續獲得國際大廠採用，後續產能將持依市況持續擴增，加上半導體材料供應國產化趨勢，晶呈科C4F6產能剛好由原先四級製造20噸擴充至二級製造100噸，搭上先進製程國產化需求順風車。未來AHF、BCL3、WF6、CO產品均針對5、4奈米以下先進製程之產品，相對同業於聚焦於成熟製程，營運利基持穩提振。

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