《半導體》力旺NeoFuse矽智財,台積10奈米FinFET製程驗證成功

【時報記者施蒔穎台北報導】IP服務業者力旺 (3529) 今日宣布,其具安全特徵的NeoFuse矽智財已成功在台積電 (2330) 10奈米鰭式電晶體(FinFET)製程完成驗證,採用矽智財所需的相關套件也已經可供客戶產品導入。

力旺指出,在先進製程中,高階晶片對安全性的考量使得Logic NVM矽智財具備不被攻擊的特性更為重要,為了達到此目的,力旺電子於台積公司10奈米FinFET製程驗證的NeoFuse矽智財具備多種安全防護的特性以防止被故障植入(Fault Injection)、資料竄改(Data Tampering)、邊信道攻擊(Side Channel Attack)等方式攻擊。

力旺表示,NeoFuse矽智財在16奈米精簡型FinFET(16nm FinFET Compact,16FFC)製程與10奈米FinFET製程的驗證將分別於2017年初與下半年完成。