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EUV機台被砍單？ 業界：不太可能
終端市場需求低迷，近期市場傳出台積電將宣布調降今年資本支出，恐衝擊艾司摩爾（ASML）及應用材料等設備廠出貨，甚至傳出艾司摩爾極紫外光（EUV）機台被砍單消息，不過業界普遍認為可能性不高，原因在於EUV機台交期長達12～15個月，且中長期來看EUV產能仍供不應求。
艾司摩爾預計19日舉行法人說明會，可望針對EUV曝光機已接訂單（backlog）變化提出說明。半導體生產鏈仍在進行庫存調整，市場傳出台積電可能在法人說明會中下修全年資本支出，加上記憶體廠放慢擴產計畫，將導致EUV曝光機訂單減少或延後，受此消息影響，EUV概念股家登、帆宣17日股價明顯有壓。
不過，業界人士對於EUV曝光機被砍單消息有所質疑，主要原因在於EUV設備是屬於訂製化生產，且設備系統交期長達12～15個月，所以採購EUV機台是屬於中長期的產能規劃，並不會因為短期的景氣循環波動而砍單。
以目前主流的0.33數值孔徑（NA）來說，5奈米邏輯製程每片晶圓平均EUV光罩層逾10層，但3奈米邏輯製程每片晶圓平均EUV光罩層約將倍增達20層以上，而EUV機台每小時晶圓產出（throughput）提升緩慢，隨3奈米製程開始導入量產，反而需要更多機台因應產能提升及製程微縮，整體EUV產能仍供不應求。
業者表示，短期景氣循環衝擊半導體廠資本支出，但台積電、英特爾、三星等大廠在先進製程的投資並沒有縮減，所以EUV曝光機交期也沒有因近期景氣變動而縮短。目前業界普遍認為市場景氣下半年緩步復甦，明年進入新的成長循環，所以不太可能在這個時間點對EUV機台砍單。
