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ASML協助三家DRAM客戶導入採用EUV，EUV光罩盒供應商家登可望受惠
【財訊快報／記者李純君報導】全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)預計2021年的全年淨銷售額將比去年成長約35%，且毛利率會達到51%至52%間的高水準，此外，也透露，正協助三個DRAM客戶導入EUV的採用，這意味著，EUV的客群已經正從邏輯代工擴大到記憶體生產，這也將讓EUV光罩盒主要供應商的家登(3680)，在後續的營運成長動能上，添新動能。 ASML發佈2021年第二季財報，2021年第二季銷售淨額(net sales)為40億歐元，淨收入(net income)10億歐元，毛利率(gross margin)50.9%，新增訂單金額83億歐元。ASML同時公布2021年第三季財測，預估淨收入約落在52億到54億歐元間，毛利率約51%~52%。
ASML總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)表示：「我們第二季的營收達到40億歐元，符合財測，毛利率則優於財測，達到50.9%，主要受益於客戶希望採取軟體升級來快速提高產能，以及一次性的會計收入認列(one-off revenue accounting releases)。而我們第二季的新增訂單金額則達到83億歐元，其中49億歐元來自EUV系統訂單，我們的總未交貨訂單金額(backlog)達到175億歐元。」
溫彼得指出：「我們看到來自於不同細分市場和對於ASML產品組合的需求仍然很高，主因是市場專注於提高產能以支持數位基礎設施的建置，這同時帶動了市場對於邏輯及記憶體晶片的長期需求，不僅在先進製程節點方面，在成熟製程節點也是。我們正在努力將設備產量最大化，我們目前預計2021年的全年淨銷售額將比去年成長約35%，預計毛利率在51%至52%之間。」
ASML預期2021年第三季的營收約落在52億歐元到54億歐元間，毛利率約51%~52%，研發成本約6.45億歐元，管銷費用約1.8億歐元，預估2021年年化有效稅率約15%。
就產品和業務摘要部分，ASML提到，EUV(極紫外光)微影系統業務：第一台NXE:3600D已出貨給客戶。相較於前一代產品，NXE:3600D的生產力提高15%到20%，且疊對精度(overlay)也提高30%。也透露，公司正增加EUV在記憶體產業的量產應用，並協助三個DRAM客戶實現在未來的製程節點中導入EUV的計畫。
至於DUV(深紫外光)微影系統業務方面，ASML的TWINSCAN NXT:2000i浸潤式微影系統在客戶端達到單日曝光6,300片晶圓的新紀錄。也完成了第100台TWINSCAN的翻新，今年預計出貨20台翻新後的PAS系統及6台TWINSCAN系統。
