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英特爾搶新EUV槓台積電 基辛格認了：我們輸在太傲慢
因疫情引發的晶片危機仍未緩解，英特爾也不斷加強晶圓代工的投資力道，近日才宣布，向微影設備大廠艾司摩爾（ASML）下訂最先進的EUV曝光機，執行長基辛格（Pat Gelsinger）直言：「我們不應浪費這場晶片危機，政府必須從此情況學到教訓，避免再讓晶片製造過度集中在亞洲」，此外，他也低頭表示，英特爾太過傲慢與自大，是輸給台積電、三星的主因。
根據《彭博社》報導，基辛格出席《彭博資訊》主辦的The Year Ahead論壇，在受訪時表示，各國政府需要從疫情導致供應鏈危機中吸取教訓，「我們不應浪費這場危機，這對經濟有利也關乎國家安全。」當局應重新考慮，在亞洲生產約80%的半導體產品這件事，對國家安全可能造成的影響。
「我們（Intel）一直遊說（拜登政府）能擴大美國晶片製造的規模，長遠的目標是希望美國在未來十年內，晶片製造能擁有30%的市占，歐洲能達到20%以上，優於目前的12%與9%。」
對此，主持人向基辛格提問，英特爾過去有很長一段時間都是業界的龍頭老大，為何會被台積電、三星等大廠追過、中間出了什麼問題？基辛格帶著認錯語氣表示：「有點傲慢也有一點狂妄自大吧，畢竟領先數十年，會對自己的技術感到自滿」不過，基辛格認為英特爾正迎頭趕上，「我們將在未來4年內推出5個製程節點，這些符合我們的進度甚至超前，是前所未有的發展步調。」
事實上，先前英特爾已證明它將急起直追，宣布向ASML下訂「業界首台」量產型EUV曝光機EXE:5200。這款曝光機具備High-NA的EUV大量生產系統，每小時晶圓曝光產能可達200片以上，將在2025年進入量產階段。
ASML執行長Peter Wennink也透露，新型曝光機訂單已達5台，預計在2024年前出貨，而量產型EUV曝光機會在2024年推出，支援客戶的量產計畫。
不過，有業界人士指出，台積電自啟動位於竹科寶山的2奈米晶建廠計畫，預計今年內就會跟進對ASML下訂High-NA量產型EUV曝光機。
至於現在的晶圓市佔率，研調機構數據顯示，台積電以53.1%穩坐龍頭，三星17.1%居第2名，而聯電以7.3%位居第三，格芯排名第四佔6.1%，中芯則是5%坐第五名位。
（封面圖/翻攝自Gelsinger推特）
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