中荷商議放寬半導體管制 白宮反對
荷蘭外交大臣費爾德坎普透露,中國向荷蘭提出希望放寬半導體行業相關出口限制。消息一出,白宮人工智慧和加密貨幣事務負責人薩克斯23日發文強調,限制向中國出售極紫外光(EUV)曝光機,是美在半導體領域「最重要的單一出口管制措施,且至關重要的是要將其延續下去」。
綜合外媒24日報導,美國1996年聯合近40個國家簽署對部分國家禁運高精尖技術的「瓦森納協議」,荷蘭是其中之一,也是全球先進半導體製造設備龍頭艾司摩爾(ASML)的所在國。據該協議,ASML出口曝光設備到中國需取得荷蘭政府出口許可,但上次許可已於2019年到期。
美總統川普2018年首屆任期時,即拉攏荷蘭加大限制中國科技發展,因此ASML對中國出口EUV曝光機始終未能獲得荷蘭政府批准。ASML執行長富凱日前表示,因中企無法獲得EUV曝光機,晶片製造技術落後英特爾、台積電和三星10至15年。即使擁有一流DUV機台,中芯國際等仍無法以經濟高效方式製造高階晶片。
費爾德坎普日前訪中,與中國國務院副總理丁薛祥、中國外長王毅分別會面,會後費爾德坎普透露,中國希望荷蘭放寬半導體設備出口限制。費爾德坎普強調,「國安問題」和「自主許可決策」仍符合荷蘭的利益,有信心荷蘭外貿與發展合作大臣克萊弗6月訪問北京時,再與中方討論此一問題。
消息一出,薩克斯隨即在社交平台X強調,川普首屆任期啟動限制EUV曝光機出售給中國的措施,現在最重要的是延續下去。
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